（原标题：光掩模阛阓买球·(中国大陆)APP官方网站，特地乐不雅）

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着手：本色编译自semiconductor-digest，谢谢。

eBeam Initiative 是一个英敢于于推论和磨真金不怕火基于电子束（eBeam）时代的新式半导体制造圭表的论坛，今天秘书完成第13届年度 eBeam Initiative Luminaries 造访。本年的造访有来自半导体生态系统的49家公司——包括光掩模、电子磋磨自动化（EDA）、芯片磋磨、缔造、材料、制造和究诘等范围的行业巨匠参与。

造访遵守线路，100%的受访者量度2024年的光掩模收入将比2023年增多（74%）或保握不变（26%）。在将来三年的缔造采购方面，行业巨匠对将来握积极格调，量度多束光掩模写入机（93%）、光掩模查验缔造（85%）和激光光掩模写入机（48%）的采购量将有所增多。此外，笃信莫得礼聘EUV时代的晶圆厂不错在7年内已矣5nm工艺的受访者比例，从旧年的12%高涨到了本年的19%。

本年的 Luminaries 造访新增了对于EUV光掩模保护膜和高数值孔径（NA）拼接时代的问题。81%的受访者觉得高NA EUV光掩模的拼接需要磋磨师在磋磨时小心拼接鸿沟。33%的受访者觉得使用保护膜的EUV光掩模的寿命至少比莫得保护膜的长3倍。

2024年7月进行的 Luminaries 造访中的其他概念：

74%的受访者高兴弧线反演光刻时代（ILT）对非EUV的193i工艺的卓著节点是有效的，而29%的受访者是非高兴这一说法，比拟旧年为24%。

55%的受访者示意，今天的卓著节点的一些要津层正在使用ILT时代，这一比例高于旧年的46%和两年前的35%。

光掩模车间的软件基础设施仍然是坐褥具有弧线格局光掩模的最大挑战。

对深度学习时代的禁受量度推迟了一年，54%的受访者量度到2025年，深度学习将在光掩模制造经过的任何表情中成为竞争上风，而旧年的造访中有56%的受访者量度是在2024年。

“咱们期待在SPIE光掩模会议上渡过一个粗犷东说念主心的周，咱们将把持第15届年度光掩模会议——这评释了总共这个词半导体生态系统对这一协作论坛的握续是非赈济，”eBeam Initiative 的处治公司缓助商D2S的CEO藤村昭（Aki Fujimura）示意。“对于光掩模行业来说，现时照实是一个粗犷东说念主心的时辰，连年来该行业已矣了强劲的增长——这评释了光掩模社区内的不凡东说念主才，以及该行业在激动半导体改进方面日益紧迫的地位。令东说念主欣喜的是，本年的eBeam Initiative Luminaries造访中，绝大巨额代表行业顶尖生意和时代巨匠的参与者皆觉得这一增长趋势将在2024年继续。”

https://www.semiconductor-digest.com/ebeam-initiative-survey-of-semiconductor-luminaries-predicts-photomask-market-growth-and-increasing-investments-in-mask-inspection-and-multi-beam-mask-writing/

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